フォトレジストの開発の転職・求人検索結果

大阪府

フォトレジストの開発・工業化 有機・高分子合成または組成開発・評価、工業化検討 登録資格

大学院卒以上 次の いずれかの経験 ・有機合成　 ・化学品の物性評価 ・半導体・ディスプレイ製造工程開発 【語学力】 TOEIC：600点以上尚可

日総工産株式会社

大阪府

所属となる研究所では、 ◇液晶や有機ELなどのフラットパネルディスプレイに使用される光学機能性フィルム、 　タッチセンサーパネルやカラーレジスト ◇半導体製造工程で用いられるフォトレジストや高純度薬品 ◇通信端末に搭載するアンテナスイッチなどに使用される化合物半導体材料 など、IT産業を支える顧客ニーズに対応した高機能・高付加価値製品をタイムリーに 提供するための研究開発を行っています。 【具体的な業務内容】 以下の業務に取り組んでいただきます。 ◇フォトレジストの開発・工業化 ◇有機・高分子合成または組成開発・評価、工業化検討

★☆意欲的に研究開発に取り組んでいただける方を歓迎します☆★ 【必須条件】 下記のいずれかの経験をお持ちの方 ・有機合成 ・化学品の物性評価 ・半導体・ディスプレイ製造工程開発 【歓迎するスキル】 ・TOEIC600点以上の英語スキル

株式会社住化HRサービス

神奈川県

【業績好調化学メーカ】フォトレジストの開発半導体製造プロセス向けフォトレジストでは世界で5本の指に入る高いシェアを誇る同社にて、以下の業務をお任せいたします。（1～4のポジションがございます） 1.　先端材料の開発 　■　新規化合物の設計：　量子化学計算を用いた光応答性または熱応答性材料の設計。合成原材料モノマーの分子特性から、合成化合物の光または熱応答性を考える。 　■　合成ルートの最適化：　設計された化合物の熱エネルギーから、遷移状態を求め、最も効率的な合成ルートを探索する。 　■　外部機関との連携：　上述の計算を実施するにあたり、負荷の大きい計算を外部委託する。この委託業務に関する交渉対応。 2.　新規材料の設計、合成、重合、および処方の確立 　■　量産のためのスケールアップ 　■　分析・評価条件の検討 　■　特許出願・特許調査 　等の生産技術、品質管理寄りの業務 3.　ArFレジスト用途低分子材料の開発と評価 　■　現行の標準的構成であるOnium塩タイプPAG（光酸発生剤）におけるアニオンの設計と合成 　■　現行標準であるアクリレートタイプのポリマー重合に用いるモノマーの設計と合成 　■　ArFレジスト基材樹脂の新規重合方法の検討と評価 　■　現行のランダム重合から、リビング重合などのより制御された重合処方の開発 　■　レジスト開発者とのディスカッション、材料ベンダーへの合成委託、量産立ち上げ・出願 4.　フォトレジスト材料の開発 　■　材料に必要な機能を定義し、合成すべき材料の構造式を創出し、合成する 　■　合成した材料が目的の物質であるか、分析、判断を行う 　■　機能定義の明確化の為、顧客元への出張、ヒアリング

【要件】 共通要件として、 　・　有機合成化学のキャリアをお持ちに方 　・　理系大学院修士以上の学歴をお持ちの方 が必須となります。

株式会社A・ヒューマン

大阪府

・フォトレジストの開発・工業化 ・有機・高分子合成または組成開発・評価、工業化検討

【必須要件】 いずれかの経験 ・有機合成　 ・化学品の物性評価 ・半導体・ディスプレイ製造工程開発 <語学力> ・TOEIC600点以上尚可 【その他】 ・大学院卒以上

キャリア・ネットワーク株式会社