上場企業
【業績好調化学メーカ】フォトレジストの開発半導体製造プロセス向けフォトレジストでは世界で5本の指に入る高いシェアを誇る同社にて、以下の業務をお任せいたします。（1～4のポジションがございます）1. 先端材料の開発 ■ 新規化合物の設計： 量子化学計算を用いた光応答性または熱応答性材料の設計。合成原材料モノマーの分子特性から、合成化合物の光または熱応答性を考える。 ■ 合成ルートの最適化： 設計された化合物の熱エネルギーから、遷移状態を求め、最も効率的な合成ルートを探索する。 ■ 外部機関との連携： 上述の計算を実施するにあたり、負荷の大きい計算を外部委託する。この委託業務に関する交渉対応。2. 新規材料の設計、合成、重合、および処方の確立 ■ 量産のためのスケールアップ ■ 分析・評価条件の検討 ■ 特許出願・特許調査 等の生産技術、品質管理寄りの業務3. ArFレジスト用途低分子材料の開発と評価 ■ 現行の標準的構成であるOnium塩タイプPAG（光酸発生剤）におけるアニオンの設計と合成 ■ 現行標準であるアクリレートタイプのポリマー重合に用いるモノマーの設計と合成 ■ ArFレジスト基材樹脂の新規重合方法の検討と評価 ■ 現行のランダム重合から、リビング重合などのより制御された重合処方の開発 ■ レジスト開発者とのディスカッション、材料ベンダーへの合成委託、量産立ち上げ・出願4. フォトレジスト材料の開発 ■ 材料に必要な機能を定義し、合成すべき材料の構造式を創出し、合成する ■ 合成した材料が目的の物質であるか、分析、判断を行う ■ 機能定義の明確化の為、顧客元への出張、ヒアリング
素材・化学・食品・メディカル系技術者 ＞ 素材・化学・食品・バイオ系技術者 ＞ 研究・開発（素材・化学・食品・バイオ）
化学・石油・石炭製品
30歳～39歳まで 【年齢制限理由】例外事由 3号 ロ 技能・ノウハウの継承の観点から、特定の職種において労働者数が相当程度少ない特定の年齢層に限定し、かつ、 期間の定めのない労働契約の対象として募集・採用する場合
【要件】共通要件として、 ・ 有機合成化学のキャリアをお持ちに方 ・ 理系大学院修士以上の学歴をお持ちの方が必須となります。
500万円～849万円 500万円～ 850万円
メンバー
正社員
神奈川県 神奈川県
本社／8:45～17:30 工場／8:30～17:15 営業・技術：フレックスタイム制（コアタイム有り）
完全週休2日制 祝日、メーデー、創立記念日、年末年始、GW、夏期など 年間休日120日、慶弔、出産、年次有給休暇初年度15日（以降16～20日）
福利厚生完備 住宅手当、家族手当、勤務地手当、役職手当、交通費ほか
半導体・液晶ディスプレイ等のフォトリソグラフィプロセスで用いられる感光性樹脂（フォトレジスト）・高純度化学薬品を中心とした製造材料、半導体用・液晶パネル用製造装置などの各種プロセス機器、その他無機・有機化学薬品等の製造・販売
2000年11月1日
3,000万円
経営幹部・ミドルマネジメント層向け年収600万〜1,000万円以上のハイクラス求人多数保有しています。業界出身の専門コンサルタントだからこそ「分かってもらえる」「話が早い」が特徴です。
製造業の弊社独占求人を担当 技術バックグラウンドをもつキャリアコンサルタントとして、秀逸な「人財」を求める企業と、第一線にてご活躍されているエンジニアの方々とネットワークを作らせて頂くため、日々活動しております。製造業のコーポレート職、技術職、営業職、外資系日本法人の営業職、営業技術職を中心に、多くの独占求人を扱っております。
【業績好調化学メーカ】フォトレジストの開発
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