外資系 土日祝日休み 語学（英語）を生かす 年間休日120日以上 社宅・家賃補助制度 退職金制度
【職務概要】・半導体製造装置（プラズマCVD、プラズマALD-薄膜形成装置）での薄膜形成プロセスの開発およびプロセス技術の改善・デバイス層間絶縁膜（Low-k膜）、ゲート絶縁膜向けのHigh-k膜の新規開発【職務内容】CVD装置(Chemical Vapor Deposition：化学気相成長法）やALD装置(Atomic Layer Deposition：原子層堆積法）のプロセス開発を行っていただきます。開発型の業務にはなりますが、装置調整作業、 客先デモ対応、開発進捗の客先プレゼンなどを幅広く担当します。※出張に関しては多い方で年の1／5前後が同社海外現地法人、顧客先への出張となります。海外出張先は米国、台湾、アイルランド等です。【同社の強み】・売上高に左右されずにR＆Dを行える環境流動比率500％、自己資本比率90％以上という圧倒的な財務基盤を誇ります。そのため、短期的な売上ではなく長期的な観点でR＆Dが可能です。
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電気・電子・半導体
～40歳まで 【年齢制限理由】例外事由 3号 イ 長期勤続によるキャリア形成を図る観点から、若年者等を期間の定めのない労働契約の対象として募集・採用する場合
【必須】■半導体シリコンデバイスの成膜、またはエッチングプロセス開発の経験者■半導体微細加工プロセス装置に関する知識と、材料技術／化学／物理での経験・知識※金属錯体開発や有機合成分野で不純物除去に関する知見のある方等も、成膜プロセスにおける前駆体・前駆物質／プリカーサーの開発で知見を活かすことが可能です。■英語（中級レベル）
550万円～750万円 年収:550万～750万程度月給制：月額333000円給与:■経験、スキル、年齢を考慮の上、同社規定により優遇■賞与：年2回■昇給：年1回
メンバー
正社員 正社員契約期間：無期試用期間：3ヶ月
東京都 【本社】〒206-0025 東京都多摩市永山6-23-1京王線「京王永山」駅 バス10分小田急線「小田急永山」駅 バス10分
9:00～17:30
完全週休2日制（土・日）／祝日／夏季休暇／年末年始 など 《年間休日129日》有給休暇（入社半年経過後10日～22日程度）※入社月によって取得可能日数が異なる。
通勤手当／残業手当／退職金制度／家族手当／住宅手当／地域手当健康診断／財形貯蓄制度／健保・各種契約保養所（補助金あり）喫煙情報：屋内禁煙
セルフスターターな方
・世界の半導体製造装置の売上高で3本の指に入るグローバルメーカー・NASDAQ上場の外資系メーカーで、開発拠点が日本にあります。CVD装置は研究開発から製造、部品調達、カスタマイズまで全て日本で行います。・就業環境：初年度有給12日付与、年間休日129日、転勤ほぼなし、そして待遇面も前職考慮と非常に社員のことを大切にする会社であり、離職率6%と非常に働きやすい環境です。・流動比率500%、自己資本比率90％以上という圧倒的な財務基盤を誇ります。
【同社の強み・魅力】■2016年度：DRAM要因で売上減少も、R＆D費は増加しています。■抜群の就業環境：初年度有給12日付与、年間休日129日、転勤ほぼなし、そして待遇面も前職考慮と非常に社員のことを大切にする会社であり、離職率6%と非常に働きやすい環境です。■外資系でよくみられるような頻繁な人員削減はなく、生涯設計も立てやすく制度や手当も厚い安定した企業です。
1982年6月
46億円
176名(グループ全体で1600名)
【事業内容】半導体製造装置及び関連製造装置、プラズマCVD装置、プラズマALD、減圧CVD装置、拡散炉等の製造・販売【会社の特徴】半導体製造装置（プラズマCVD装置、プラズマALD装置、減圧CVD装置、エピタキシャル成長装置の薄膜成形装置）の開発製造を行う精密機器製造企業です。成膜装置を扱う前工程事業では、プラズマALD装置とエピタキシャル成長装置で業界トップクラス、プラズマCVD装置、縦型減圧CVD装置で業界上位のマーケットシェアを誇ります。また、近年注目されているハフニウムを利用したゲート絶縁膜の開発分野でも注目されている存在となっています。
2003/3/1
4200万円
法人全体：744人（2022年4月1日現在）／転職アドバイザー：600人
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プロセスエンジニア
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